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整體焊接支架精密隔振光學(xué)平臺：RUWVD系列

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產(chǎn)品簡介

簡要描述：RUWVD系列隔振光學(xué)平臺支架采用整體焊接工藝，確保隔振系統(tǒng)整體的穩(wěn)定性，減震器采用專業(yè)級精密阻尼減振器，比起標(biāo)準(zhǔn)阻尼隔振墊，隔振性能進一步大幅提高。...

詳細(xì)介紹

RUWVD系列隔振光學(xué)平臺支架采用整體焊接工藝，確保隔振系統(tǒng)整體的穩(wěn)定性，減震器采用專業(yè)級精密阻尼減振器，比起標(biāo)準(zhǔn)阻尼隔振墊，隔振性能進一步大幅提高，另外支架配有高度調(diào)整機構(gòu)和腳輪，方便移動和調(diào)整。

■臺面材料：不銹鋼面板材料為1Cr17
■上臺面厚度6mm高導(dǎo)磁不銹鋼，表面密迪紋處理（配合磁力底座使用）
■表面M6螺紋孔、孔間距25X25mm
■平面度：≤0.02-0.05mm/m²
■平臺中心300mm×300mm 內(nèi)載荷114kg，常規(guī)支撐間距下的變形量：＜6×10-3mm
■動撓度系數(shù)<1.2×10-3;的相對位移變形：＜8×10-7mm
■表面平面度優(yōu)于±0.1mm/600mm2；
■表面粗糙度:≤0.8μm
■采用專業(yè)級精密阻尼減振器，比起標(biāo)準(zhǔn)阻尼隔振墊，隔振性能進一步大幅提高
■固有頻率：3～6Hz （根據(jù)實驗環(huán)境有差異）
■振幅：<5μm
■負(fù)載800kg/m²
■可選厚度50mm/100mm/200mm/300mm
■適合于光通訊、電子制造、科研、科研院校、顯微鏡、光路測試、光學(xué)測量、激光干涉、激光掃描、光譜實驗等領(lǐng)域應(yīng)用（對磁場較高的要求，百級間均可滿足使用要求）

產(chǎn)品型號	臺面厚度（mm）	長-寬-高（mm）	備注
RUWVD1200x800x100	100	1200-800-800	4支撐 M6螺孔孔距25mm
RUWVD1500x1000x200	200	1500-1000-800	4支撐 M6螺孔孔距25mm
RUWVD1800x1200x200	200	1800-1200-800	4支撐 M6螺孔孔距25mm
RUWVD2000x1000x200	200	2000-1000-800	4支撐 M6螺孔孔距25mm
RUWVD2000x1200x200	200	2000-1200-800	4支撐 M6螺孔孔距25mm
RUWVD2000x1500x200	200	2000-1500-800	4支撐 M6螺孔孔距25mm
RUWVD2400x1200x200	200	2400-1200-800	4支撐 M6螺孔孔距25mm
RUWVD2400x1500x200	200	2400-1500-800	4支撐 M6螺孔孔距25mm